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Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography
Alfred Kwok-Kit WongQuanto ti piace questo libro?
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This tutorial summarizes optical lithography enhancement research and development over the past 20 years. Discusses theoretical and practical aspects of commonly used techniques, including optical imaging and resolution, modified illumination, optical proximity correction, alternating and attenuating phase-shifting masks, selecting RETs, and second-generation RETs. Useful for students and practicing lithographers.
Contents
- Foreword
- Preface
- List of symbols
- Introduction
- Optical imaging and resolution
- Modified illumination
- Optical proximity correction
- Alternating phase-shifting mask
- Attenuated phase-shift mask
- Selecting appropriate RETs
- Second-generation RETs
- Concluding remarks
- k1 conversion charts
- Bibliography
- Index
Categorie:
Anno:
2001
Casa editrice:
SPIE Publications
Lingua:
english
Pagine:
234
ISBN 10:
0819439959
ISBN 13:
9780819439956
Collana:
SPIE Tutorial Texts in Optical Engineering Vol. TT47
File:
PDF, 3.87 MB
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IPFS:
CID , CID Blake2b
english, 2001
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